卫浴真空镀膜机 鼎益科技，鼎益真空 韶关真空镀膜机

磁控蒸发双用镀膜机

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铬膜真空电镀设备

低温真空电镀设备

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高真空蒸发镀膜机

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磁控/蒸发双用镀膜设备：

集中了等离子体处理，高等阴较磁控溅射，电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠，重复性一致性良好，沉积速率高快，玻璃真空镀膜机，附着力好，卫浴真空镀膜机，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，磨擦系数低，可保持原有工件表面光洁，具有韧性好，不易脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低，产品合格率高，塑料真空镀膜机，绿色环保等特点，主要适用于电脑，手机，高等工业（家用）电子电器，航空等领域，可镀制复合金属膜，阳江真空镀膜机，合金膜，透明（半透明）膜，不导电膜，电磁屏蔽膜及特殊膜层等。

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直流磁控溅射镀膜设备

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用高能粒子轰击固体表面，固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子具有一定的能量，它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜，称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材击出阴极靶材的原子或分子，飞向被镀基片表面沉积成薄膜。

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鼎益真空科技：磁控溅射镀膜机设备型号:磁控溅射真空镀膜设备磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。设备主要参数真空室尺寸:Φ1000mm、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm  、Φ2000mm真空系统:旋片泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选分子泵、深冷泵、深冷系统)极限真空:6x10-4Pa工作转动方式多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）冷却方式水冷却循环方式，另配工业冷却水塔或工业冷水机（制冷机）或深冷系统。（客户提供）控制方式PLC+触摸屏操作或计算机控制，手动、半自动、自动方式供给指标气压0.5-0.8MPa、水温≤25℃、水压≥0.2MPa报警及保护对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警、并执行相应保护措施及电气联锁功能抽气时间::空载大气抽至5x10-3Pa，>13min备注：以上设备参数仅做参考，具体均按客户实际工艺要求设计定做应用展示：

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